苏扬持续道：“别的，掩膜台的活动节制精度达到纳米级，物镜、量台、暴光台、内部封闭框架、减振器等物，也都是目前最早进的产品。”
四名高冷的保镳们不知所云，作为退役的甲士，他们对这些科技玩意儿一无所知，完整听得云里雾里。
“是啊，刚才用的还是最低的精度！”
“如何能够，我前两天赋方才看的消息，尼康公司的光刻机，也才在筹办进发32nm半导体工艺，而光源还是用的是193nm的深紫外光啊！”
在硅片大要覆盖一层具有高度光敏感性的光刻胶，再用光芒透过掩模晖映在硅片大要。
“60nm的电路图，竟然真的被我们转移到了硅片上。”
包含了光刻、刻蚀、离子注入、薄膜堆积、化学机器研磨等步调。
“……”
“苏总，您别不是在逗我们高兴啊，现在环球范围内，绝对没有任何一家半导体公司，能造出如许的设备！”
芯片在出产中需求停止20-30次的光刻，耗时占到IC出产环节的50%摆布，占芯片出产本钱的三分之一。
完成以后，就能通过特定溶剂，洗去硅片大要残存的光刻胶了。
别的，商城挂着的inter酷睿系列，也有45nm――14nm芯片的工艺技术。
“是啊，暴光波长一下子降到13.5nm，这岂不是意味着……它能够把光刻技术扩大到32nm以下的特性尺寸了！！！”
苏扬看了半秒刘元龙，道：“这些设备，的确是最新的半导体核心设备，特别是光刻机。”
苏扬的话音落下。
半导体芯片出产首要分为IC设想、IC制造、IC封测三大环节。
“没错，往上一个刻度的话，岂不是意味着……45nm乃至32nm的芯片也有能够了？”
这是一个非常涨士气的冲破。
“是啊，而我们现在，却具有了一台能够量产60nm芯片的光刻机，如果操纵谙练了，速率提上去，再停止瓜代光刻，一天起码能够造上数百片12寸的圆晶啊！”
现场蓦地变得一片沉寂。
“出来了，竟然真的做出来了！”
这和中原当代的印刷术，实际上有一些类似之处，但光刻技术却比印刷术难了千万倍。
“这是一个冲破，了不起的冲破，如果我们把这里产生的事情，宣布出去，足以震惊全部中原，乃至是中心都要被轰动！”
安正国找来技术职员和质料，在苏扬的指导下，这些专业出产芯片的员工，开端体味到这台光刻机的利用流程。
以是，光刻的工艺程度，常常直接决定了芯片的制程程度和机能程度。
几名远扬半导体的高层，一个个都红着眼眶，把目光不竭在苏扬和光刻机的身上盘桓。
接着，就是停止检测，主如果显影检测，让合规的硅片进入后续的蚀刻流程。
“所采取的光是13.5nm的软X射线，也就是极紫外光作为光源。”
说着，安正国立即调集人手，搬来呼应的半导体质料。
这一过程，目前只能通过光刻，才气最有效地实现。
凡是意义上来讲，只要处理光刻机的题目，那么芯片制造的工程，就结束了一半。
“当然，最首要的还是这台光刻机的光源，并非是目前国际海内风行的深紫外光。”
“采取的是13.5nm的极紫外光？”